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○ 금속에 전해산화 처리하는 종래의 양극산화(anodizing) 기술은 금속의 표면에 다공성의 수산화피막을 형성시키므로 부식방지 및 마모 저항성에 미흡하여, 이를 개선하기 위하여 최근에 환경친화적인 PEO처리기술이 널리 연구되고 있다. 특히 PEO 처리 시 전류밀도는 산화피막층 형성에 중요한 역할을 하고, 금속 표면에서의 양극전류는 산화층의 두께의 균일도 및 표면품질 특성에 결정적인 역할을 하기 때문에 향후 다양한 목적의 여러 형태의 코팅기술에 대한 연구가 요구된다.

 

○ 저온침적 코팅기술은 플라스틱처럼 열에 약한 소재나 산화하기 쉬운 알루미늄, 구리, 복합재 등에 대하여 기존 고온방식의 코팅에 어려움을 겪은 소재에 쉽게 적용할 수 있었다. 향후 전자기기부품과 같은 기질표면처리를 통한 제품 고부가가치화 기술, 예를 들면 극초음속, 고용융점 재료, 복합재료 등의 적용기술을 개발하여 제품을 획기적으로 고기능화 할 수 있는 차세대 저온분사 코팅기술의 확립이 요구된다.

 

○ 발명의 전자기기부품의 수분과 산소의 불침투성 초-박막 내-수분 코팅을 위한 공정은 산화알루미늄, 산화티타늄, 산화하프늄 등의 금속산화물 또는 복합물의 적절한 코팅 성질을 가지는 다양한 코팅물질을 반응실에 도입하여 전자기기부품의 표면에 저온(150℃ 또는 100℃ 이하)하에서 플라스마에 노출시켜 침적코팅시키는 방법으로 저온에서 코팅하여 기저 표면의 손상을 막고 전자가기의 연결이 쉽다는 장점이 있다.

 

○ 이 특허의 코팅기술은 매우 포괄적으로 국내 유사 기술개발에 참고가 될 것이나 특허신청에는 청구범위에 신경을 써야 할 것으로 보인다. 코팅물질로는 알루미늄산화물 또는 TiO2, HfO2, SiO2 및 ZrO2와 같은 금속산화물은 물론 다양한 형태의 유기, 무기물 및 복합물질을 잘 알려진 화학물질을 사용하여 침적시킬 수 있다. 중요 코팅기술로는 코팅물질 및 선구물질의 선택과 저온(150℃ 또는 100℃ 이하)하에서 UV 플라스마에 노출 등이 특허청구 기술이다. 새로운 코팅물질과 선구물질로 대체하기 위한 연구일 경우 이 특허와 저촉되지 않는 새로운 형태의 코팅기술도 가능할 것으로 전망된다.




내-수분 보호코팅과 보호코팅 형성을 위한 원자층 침적공정.pdf






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