No |
기자재번호 |
분류 |
장비명 |
취득일 |
담당자 |
345 |
[AD03]_50 |
측정 |
표면저항측정기(NAPSON RT-7) |
2010-02-09 |
강동한 |
342 |
[AD03]_P6 |
TFT공정 |
[P6] 플라즈마 화학 기상 증착 시스템([P6] PECVD) |
2008-09-09 |
남윤덕 |
341 |
[AD03]_P4 |
TFT공정 |
[P4] 플라즈마 화학 기상 증착 시스템([P4] PECVD) |
2008-09-09 |
홍성준 |
332 |
[AD03]_63 |
TFT공정 |
열처리기(작은FA) 10 hr(Small furnace) |
2008-09-04 |
박승현 |
331 |
[AD03]_62 |
TFT공정 |
열처리기(유기물FA) 10 hr(Organic furnace) |
2008-09-04 |
강동한 |
330 |
[AD03]_61 |
TFT공정 |
열처리기(2단FA)(Twin furnace) |
2008-09-04 |
강동한 |
328 |
[AD03]_55 |
측정 |
접촉각 측정장비(Contact angle measurement) |
2008-09-04 |
최민희 |
325 |
[AD03]_57 |
측정 |
박막두께측정기(alpha-step) |
2008-09-04 |
박승현 |
322 |
[AD16]_03 |
측정 |
TFT 측정 시스템 2(TFT measurement system 2) |
2008-09-04 |
김세환 |
320 |
[AD16]_04 |
측정 |
C-V 측정 시스템(C-V measurment system) |
2008-09-04 |
김세환 |
314 |
[AD16]_02 |
측정 |
TFT 측정 시스템 1(TFT measurement system 1) |
2008-09-04 |
김세환 |
291 |
[AD17]_05-3 |
측정 |
전도도 측정 시스템(Conductivity measurement) |
2008-09-04 |
김세환 |
244 |
[AD03]_43 |
TFT공정 |
마스크 정렬기(Aligner (Karl suss MA6)) |
2008-09-04 |
김효준 |
242 |
[AD03]_42 |
TFT공정 |
마스크 정렬기(Aligner (Canon)) |
2008-09-04 |
김효준 |
212 |
[AD03]_13 |
측정 |
광학현미경(optical microscope) |
2008-09-03 |
최민희 |
189 |
AD17-9-3 |
측정 |
I-V-L 시스템(I-V-L system) |
2008-09-03 |
박태진 |
165 |
[AD01]_17 |
OTFT 공정 |
잉크젯 장비(Ink-jet system) |
2008-09-03 |
이선희 |
121 |
[AD05]_03 |
유틸리티 |
정밀 유리 스크라이버(Precision Glass Scribing) |
2008-07-05 |
이선희 |
103 |
[AD16]_01 |
TFT공정 |
저온 poly용 레이저 시스템(Laser system(Low temp Poly-Si)) |
2008-07-05 |
김아름 |
93 |
[AD03]_12 |
TFT공정 |
진공용 가열로(FURNACE) |
2008-07-05 |
박승현 |
41 |
[AD03]_11 |
TFT공정 |
급속열처리장비(RTA system) |
2008-07-04 |
박승현 |
36 |
AD17_3-1 |
OTFT 공정 |
잉크젯 장비(ink-jet equipment) |
2008-07-04 |
최민희 |