본 장비는 UV 경화시 산소를 차단시켜 경화 향상을 시켜주는 장치임. 이중 MIRROR를 적용하여 기밀성을 높여 최적의 상태를 유지시켜 줌. 산소 농도 300PPM 이하 상태 유지. N2 농도 99.9999% (질소)는 사용자측에서 공급하는 기준임.

산소분자(O2)에 자외선(UV)이 닿으면 산소 원자(O)로 분해되고 이렇게 분해된 산소원자는 다시 산소분자 (O₂)와 결합해 오존(O3)이 생성됨. 문제는 이렇게 만들어진 오존(O3)이 대기층 성층권에서와 같이 자외선을 감소시켜 제품에 균일한 UV량이 도달하지 못하게 됨. 이러한 문제점을 해결 하기위해 제품표면에 질소(N2) 주입하여 산소 (O₂)를 제거하므로써 오존 (O3) 발생을 최소화 하는 목적임

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